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光刻机的技术在国内是比较先进的。应该是上海微电子设备有限公司(简称SMEE)，已经实现90nm量产，目前正在研究65nm的工艺。其他还有合肥新硕半导体 有限公司、先腾光电科技 有限公司、无锡影速半导体。但是，光刻机这些企业还是在原有的道路上一步步前进。我相信只要他们努力，将来一定能达到很高的水平。
所以他们只能在低端继续，占据一定的市场份额。如果要进入高端市场，国内最先进的光刻机技术应该是中科院光电所的技术成果。2018年11月29日，新华社报道，国家重大科研装备研制项目“超分辨率光刻装备研制”29日通过验收。据悉，该光刻机由中科院光电技术研究所研制，光刻分辨率达到22纳米。结合双曝光技术，未来还可以用来制造10纳米的芯片。
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